| 谈话标题 | 主持人 | 组织 |
| 用于MEMS应用的干蚀刻bob综合app官网登录 | 钟仁博士 | bob平台下载手机版 |
| 场发射扫描探针光刻和低温等离子体刻蚀超越CMOS器件 | 马丁博士霍夫曼 | Tu ilmenau. |
| 通过基板偏置调整等离子体ALD中的材料特性 | 伤害努普博士 | bob平台下载手机版 |
| 原子层蚀刻（ALE） | Matthew Loveday博士 | bob平台下载手机版 |
| 用于RF和POWER应用的通孔和功能的SIC蚀刻bob综合app官网登录 | Samantha Mazzamuto博士 | bob平台下载手机版 |
| 用于光电子工业的石墨烯和基于2D材料的器件:(PE) CVD， (PE) ALD, RIE和ALE | 弗朗切斯科雷艾 | bob平台下载手机版 |
| 审查INP蚀刻过程，包括终点检测和等离子体清洁过程 | 凯蒂·马博士 | bob平台下载手机版 |
| 等离子体沉积PECVD与ICP PECVD | Owain托马斯博士 | bob平台下载手机版 |
| VCSEL制造的AlGaAs / GaAs处理综述 | 凯蒂·马博士 | bob平台下载手机版 |
| 带间级联激光脊波导的深度刻蚀 | Johannes Hillbrand. | FKE ZMNS，TU WIEN |
| 谈话标题 | 主持人 | 组织 |
| 离子束蚀刻INP＆GaAs | 博士博士博士 | bob平台下载手机版 |
| 等离子体氧化SiC-SiO2堆过渡层性质的研究 | Gernot Fleckl. | 涂维恩 - isas |
| 离子束应用的终点bob综合app官网登录 | 博士博士博士 | bob平台下载手机版 |
| 有效的PECVD血浆清洁 | Owain托马斯博士 | bob平台下载手机版 |
| 基于等离子体加工的ZnO光电子学 | 鲍里斯拉夫·丁夫 | FKE ZMNS，TU WIEN |
| 钻石蚀刻 - 应用与挑战bob综合app官网登录 | 安德鲁·牛顿博士 | bob平台下载手机版 |
| ICP RIE和ALE的GaN低伤害蚀刻 | Matthew Loveday博士 | bob平台下载手机版 |
| 用于低损耗集成光子组件的硅蚀刻 | 钟仁博士 | bob平台下载手机版 |
| 高性能THz QCLs的双金属波导制作 | 马丁Kainz | 你。ZMNS，TU WIEN |
| 生物医学器件的制备:相关等离子体处理技术综述 | 伤害努普博士 |
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| vox＆其他材料纳米束沉积的离子束沉积 | 博士博士博士 |
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人均费用:€240，包括9月17日的2天研讨会和晚餐活动
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