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国际研讨会上等离子体低温腐蚀过程(PlaCEP)

1国际研讨会上等离子体低温腐蚀过程

我们兴奋地赞助第一届国际研讨会(PlaCEP)等离子体低温腐蚀过程。

PlaCEP是热情的收集领域的科学家和工程师使用例如科幻是从汤姆斯材料的低温腐蚀6哈佛商业评论或Cl2等离子体化学反应在温度低于-10°C。它包括造型、仿真实验(原子层)和/或腐蚀的传统材料如硅、锗、砷化镓、磷化铟等新兴材料(二维材料石墨烯和金属氧化物半导体2),而且它的氧化和氮化硅陶瓷化合物

了解更多:PlaCEP

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位置

法国奥尔良

日期

2020年5月5日至7日

业务

等离子体技术

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