光子学+虚拟展览和会议，与Epic合作，是第二次进行光子学行业的新的，高效的网络活动6月29日 + 30，2021年13:00 - 17:00 Cest TimeZone。

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在Photonics +会议期间，我们将发表关于如何在增强现实和其他应用中蚀刻高RI材料中倾斜功能的讨论。bob综合app官网登录

周三6月30日，15：30-15：40 pm（BST）
谈话标题：高RI材料的倾斜蚀刻
演讲者：Will Frost，牛bob综合app官网登录津仪器的应用工程师等离子技术bob平台下载手机版

由于其折射率，目前基于聚合物的增强现实（AR）眼镜达到了视场的上限。当前使用的树脂具有N≤1.9，似乎是进一步改善这一点的重大障碍。玻璃基板和涂料已经很容易获得N> 2，例如ZRO₂和Tio₂因此，是当前技术的可行替代方法。在二元或倾斜的波导中蚀刻这些材料需要开发新工艺并使用更多新颖的技术。在这项工作中，我们证明了基于树脂的纳米印刷光刻可以用作倾斜的tio蚀刻的掩模₂波导，使用反应性离子束蚀刻（RIBE）。此外，我们证明该过程可以转移到其他高RI材料（例如眼镜）上。这项工作基于与EV Group合作执行的工作¹。

参考：

1. M. Eibelhuber等，“利用纳米印刷的LITHOGRPAHY的折射率2.0的Ar Waveguides”，Proc。SPIE 11765，用于展示和传感的光学体系结构，以增强，虚拟和混合现实（AR，VR，MR）II，117650H（2021年3月29日）；doi：10.1117/12.2579505