SPIE先进光刻2022

在超过40年的时间里，SPIE先进光刻技术在将微和纳米光刻技术聚集在一起方面发挥了关键作用。光刻技术继续面临挑战，以延伸到不断缩小的一代，但仍保持可制造和成本效益。

会谈

2020年2月26日星期三

• 会议5:III-V材料的电感耦合等离子体(ICP)和原子层蚀刻(ALE)的低损伤蚀刻，以实现下一代器件性能。作者:Mark Dineen, Matthew Loveday, Andy Goodyear, Mike Cooke, Andrew Newton, Stephanie Baclet, Tania Hemakumara Oxford Instbob平台下载手机版ruments Plasma Technology Ltd(英国)
  
  
• 会话6:III-V材料的原子层刻蚀以实现下一代器件性能(特邀论文)，Craig Ward，牛津仪器等离子技术有限公司(美国)。bob平台下载手机版

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