7月17日

引入“肾上腺脑白质退化症”的等离子体处理系统的二维材料

bob平台下载手机版肾上腺白质退化症患者和2 d牛津仪器公司技术专家与埃因霍温科技大学的研究团队合作意识到原子层沉积(ALD)的二维过渡金属dichalcogenides nanodevice应用程序。bob综合app官网登录

为此特定牛津仪器bob平台下载手机版FlexALALD系统配置已经放在一起针对这些二维材料的生长。的FlexAL-2DALD系统提供了大量的福利增长的2 d材料:

  • H2等离子体和H2年代天然气计量
  • 负载制动和涡轮泵的清洁增长和工作条件
  • 增长200 mm晶圆
  • 制程增长电介质和其他退化层二维材料在相同的工具
  • 高温表(rt - 600°C)
  • 等离子体清洗,空调室
  • 射频衬底偏压进一步选择过程的灵活性
  • 原位过程监控选项使用光谱椭圆光度法和质谱法

原子层沉积(ALD)是一个真正的纳米技术,允许一些纳米超薄薄膜沉积在一个精确控制的方法。有两种定义原子层沉积的特点,自限性原子层增长和高保形涂层。这些特征提供了许多好处在半导体工程、微机电系统和其他纳米技术的应用程序。bob综合app官网登录

期望提供的广泛的参数空间FlexAL-2DALD 2 d系统应该允许增长过渡金属dichalcogenides已经在CVD熔炉的温度低于使用。能力做两个H2等离子体和纯H2年代气也应该提供直接sulfurzation途径除了使用“肾上腺脑白质退化症”的处理。第一个结果二维金属氧化物半导体的增长2肾上腺白质退化症患者在450°C和较低的温度下材料提出了7月16日th2017年由埃因霍温ALD会议研究人员在丹佛。

克里斯•霍德森ALD产品经理在牛津仪器等离子技术与这项研究很高兴,”博士。bob平台下载手机版波尔和等离子体与材料处理(PMP)组你/ e是退化的研究进入新的应用领域。2 d材料是一个热门话题和肾上腺白质退化症患者在较低温度下允许增长并且结合利用2 d材料ALD沉积和其他处理方法在200毫米为一个新功能提供多种可能性。

Ageeth波尔博士评论,“我们兴奋的结果新的ALD FlexAL配置从牛津仪器,已配置为满足我们的需求。bob平台下载手机版”波尔解释道。研究人员特别感兴趣的相对较低的温度。“对CVD过程,通常需要在1000摄氏度的高温。半导体的应用程序通常是致命的,因为高温会增加原子bob综合app官网登录的扩散,这使得它难以将它们在正确的位置。我们想要有一个过程,收益率在较低温度下材料的高质量。这对二维非均匀层尤其重要我工作,因为在低温下少之间的原子扩散层会发生。”