1月16日

ULVAC Inc.和Oxfobob平台下载手机版rd Instruments Plasma Technology合作将原子级处理解决方案引入日本电力和射频市场

领先的半导体设备解决方案提供商，牛津仪器等离子技术公司（牛津仪器纳米技术工具有限公司，英国牛津Tubnebob平台下载手机版y）和ULVAC公司（日本神奈川Chigasaki）我们很高兴宣布一项关键合作，该合作将为日本基于GaN和SiC的宽带隙生产客户带来领先的沉积和蚀刻技术解决方案。

“bob平台下载手机版牛津仪器等离子技术公司很高兴能与ULVAC合作，将其成熟的工艺解决方案带到日本电源和射频市场”，牛津仪器等离子技术公司董事总经理Mike Ganser Potts评论道。“这种关系将从ULVAC作为我们在日本的渠道合作伙伴开始，将允许本地生产客户访问牛津仪器公司的原子级处理解决方案套件。”

“这确实是一次非常重要的合作”，ULVAC Inc.高级电子设备部总经理Tetsuya Shimada证实。，“我们的新合作伙伴牛津仪器等离子技术公司拥有关键的工艺技术和专有技术，可补充我们自身的能力。结合我们的客户支持基础设施，这将使我们能够为我们的日本客户提供完整的解决方案。”bob平台下载手机版

bob平台下载手机版牛津仪器等离子体技术的原子层沉积（ALD）和原子层蚀刻（ALE）是基于GaN和SiC的器件实现功能性和可靠器件制造的关键工艺步骤。凭借过去十年在宽带隙应用方面获得的关键技术和专业知识，牛津仪器等离子技术完全能够为这些领域的技术领先的日本产品客户提供服务市场。bob综合app官网登录

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为牛津仪器等离子技术有限公司（Oxford Instrubob平台下载手机版ments Plasma Technology）发行