等离子体蚀刻101第1部分

我以前的博客文章后我希望您已经创建了一个好腐蚀面具…不要让我又开始了面具…所以我们需要考虑什么呢?好吧,我为我的博士研究的时候,我的上司说每天要做的第一件事是让一个小牺牲等离子神…。我认为我们可以做得更好。

等离子体化学是接下来,正确选择可以区别一个电梯设备腐蚀高处或委托的本。

一个腐蚀过程总是包含三个元素,每个都有自己的优点和缺点:

1. 物理组件表面被高能离子轰击和材料粉碎:定向,表面光滑

   缓慢、低选择性面具,高能离子可以引入损伤

2. 纯粹的化学成分元素的等离子体结合的表面上形成的化合物是本质上不稳定,从表面蒸发:低损失、高选择性、快速

   将腐蚀四面八方同时,可能的粗糙表面

3. 离子辅助组件表面上形成的化合物在哪里被轰击离子,但通常比纯物理腐蚀:低能量损失低、选择性、快速、定向

气体等离子将决定你选择创建这些组件占主导地位的过程。选择一种惰性气体,如氩气(Ar),你就会得到物理腐蚀只。等气体六氟化硫(科幻小说₆)将腐蚀硅以化学方式(Si)很好但除非控制将削弱概要文件。以选择你的气体看看它形成的化合物与你的样品温度这些变得不稳定,这将告诉你如何与你的晶片。然后,使用气体的组合可以给更多的人比另一个风格的蚀刻允许控制选择性,率和概要文件。

在某种程度上!显然这并不是故事的全部,组件之间的平衡也受到参数如功率、压力和温度…。回到那些牺牲的等离子体神吗?也许现在,直到我的下一个博客,我透露更多关于等离子体蚀刻的技巧。

作者:马克Dineen博士