法国格勒诺布尔,在下周我们举办一个研讨会原子尺度加工、组织与Minatec我必须说我很期待。我认为这个话题是及时和符合许多预计是一个趋势,当前和新颖的处理技术结合“原子尺度处理”。两种技术,立即想到那些在这个领域是原子层沉积(ALD)和原子层蚀刻(ALE或我们来),而且许多其他技术仍将原子尺度处理工具箱的一部分,例如等离子体蚀刻、离子束刻蚀和沉积以及其他小说增长技术等使二维材料,例如石墨烯和金属氧化物半导体₂。所有的这些将在研讨会期间讨论。

我希望未来会带来很多这些技术之间的协同作用,和组合可能展示了独特的新选项设备制造业。它给了我欢乐为等离子技术工作,所有这些技术一起一个屋檐下,我认为有很多从不同的技术以促进他们所有人。我们应该小心不要重新发明轮子,利用所有可用的知识在所有其他字段。例如等离子蚀刻和离子束可以与血浆ALD和啤酒相关知识,和已知的影响在电影增长通过溅射或化学汽相淀积(CVD)有价值理解增长ALD和2 d材料。

从我的贡献,我将谈论ALD和原子尺度处理的新发展。我还打算讨论血浆ALD的基本知识,我认为这与小尺度,变得越来越重要。其他的事情我将讨论包括射频衬底偏压ALD和等离子表面处理。一般我期待着一个开放的讨论和激动人心的新想法。车间是免费的,如果你有兴趣请报名。希望在那里见到你!

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