牛津仪器组的一部分bob平台下载手机版
扩大
等离子体技术
四个原因2018年是一个伟大的创新

2018年12月20日|作者:马克Dineen博士

在牛津仪器等离子bob平台下载手机版技术(OIPT)我们有一个悠久而丰富的历史与世界上最好的研究人员合作,帮助他们把他们从实验室到工厂工作。今年是一个杰出的例子有许多创新达到一个阶段,他们被提供给市场。

砷化镓/ AlGaAs VCSELs

面部识别纳入iphone X 2017年末VCSEL阵列已进入消费市场。虽然预测可能略有软化这一技术已成定局,计划引入的许多其他手机制造商。这是挠VCSELs将表面的影响,激光雷达对无人驾驶汽车,增强现实(AR)和高速通信VCSELs将继续推进性能。OIPT已与大部分的VCSEL从美国制造商发现他们需要什么,然后开发有针对性的过程解决方案。通过这种方法我们已经成功交付流程和设备改进,真正帮助我们的客户前进。

碳化硅电力设备

今年参加了ISPSD和ECSCRM真的让我兴奋的数量在碳化硅和氮化镓(更)材料。ECSCRM的气氛让人想起了pre-HBLED繁荣之前,市场巨大,而这一次,市场预测是基于一个坚实的需要和性能。与基板供应商最大的头痛的是,他们不能生产足够的晶片来满足市场。随着电动及混合动力汽车的发展(EV /高压)会发生,如果但当,碳化硅电力设备只朝着一个方向。这将推动创新和降低制造成本进而将发布新的机会将推动创新…好时光。OIPT等离子体刻蚀和沉积过程,使优化设备性能优良的拥有成本(首席运营官)。为我们的最新观察这个空间白皮书碳化硅电力设备

氮化镓射频设备

我承认为甘有软肋,我为我的博士研究大约20年前,我与我在我的职业生涯已经对许多人来说,许多有趣的地方。一段时间现在已经提出了射频设备650 v,虽然总是在军事应用现在接近这一阶段时,它可以提供一般的市场。bob综合app官网登录Transphorm和氮化镓系统等公司已经提供氮化镓的优点:快速切换,减少包装和更高的效率。周围的创新生产的正常(E模式)设备带来新观念等原子层蚀刻(ALE)和生产原子层沉积(ALD)成为主流。OIPT的位置,它可以提供这些技术在一个集群系统行业标准磁带处理对高吞吐量。

可使激光

数据,数据,数据——如果你认为现在有高数据流量就等着瞧!物联网,5 g,视频通话所有这些,更需要的通信规模我们从未见过的。可使激光的核心通信系统没有它不能获得所需要的速度满足体积。蚀刻OIPT发展方面,介质钝化和许多其他流程解决方案为我们的客户。我们提供的深度过程知识和经验真的使我们的客户得到最轻和最从每个晶片设备。阅读更多关于我们的白皮书

2018年是一个伟大的、复合半导体制造业正在进入主流在许多令人兴奋的方式。OIPT化合物半导体等离子体过程解决方案的公司。2019应该更令人兴奋!

的更多信息bob平台下载手机版牛津仪器等离子体技术应用访问我们的页面bob综合app官网登录通过我们的电子邮件或写信给我们Plasma-experts@oxinst.com

问我们一个问题!