Stephanie Baclet

在选择蚀刻倾斜特征的解决方案时要考虑的3件事

与传统的垂直光栅相比，倾斜曲面浮雕光栅的制造面临着独特的挑战。

制造商必须严格控制制造公差，以确保波导设计的模拟光学效率由加工产品提供。

基于我们在蚀刻用于增强现实(AR)应用的倾斜光栅方面的专业知识，我们分享了展示高质量倾斜特性的前3个需求。bob综合app官网登录

角度是怎么定义的?如何控制并行性?

由于倾斜的结构，该过程非常容易发生离子偏转，导致不对称蚀刻，因此失去对角度的控制。

用于AR应用的SRGs的SEM图像。bob综合app官网登录

然而，并不是所有的技术都是平等的。许多技术基于等离子体技术是否复杂、昂贵或不能保证在大面积上良好的蚀刻速率和轮廓均匀性．

离子束刻蚀荷兰国际集团(ing)提供最好的提供方式物理能够腐蚀方向。离子束处理的气体压力比其他等离子体技术低得多．这允许减少气体散射和更好的配置文件控制。

什么是统一加工区域?

用于SRGs的AR光栅。

整个晶圆片的目标均匀性是由应用的要求来定义的，其中包括年代每个晶圆片的波导尺寸和数目。

然而，根据蚀刻反应器的设计，与目标均匀性相匹配的面积可能并不对应于整个晶圆尺寸。边缘排除可达40mm。大边缘排除是由非均匀离子分布。

当d以一定角度蚀刻t腐蚀深度趋向于年代在靠近离子的区域中更高年代源。设备制造商必须操纵离子的分布来补偿不均匀性。

网络研讨会:AR斜光栅的干蚀刻

你有合适的口罩吗?

特征的周期性取决于应用。对于AR耳机来说，波导结合器的典型周期大约在λ／2到λ，产生约100到200nm的凹槽。这些尺寸要求使用更精细的光刻设备，如电子束光刻或纳米压印。

在掩模结构不明确的情况下，缺陷可以在加工过程中转移到特征上。因此，在蚀刻前确定掩模的轮廓是至关重要的。

一般的扫描电镜特征可以用来成像掩膜，但是评估必须在晶圆片的整个表面进行。一旦掩模处理被很好地理解和控制，最佳成品率可以在倾斜蚀刻过程中实现。

如果您想了解更多关于处理倾斜特性，请查看我们的基于“增大化现实”技术的解决方案．