虽然许多技术被认为是提供真正的身临其境的基于“增大化现实”技术的经验,波导的方法已经像微软这样的大公司青睐的全息透镜和Vuzix是因为它的能力,以达到高的视野。
我们有多年的经验在大面积腐蚀倾斜的特性。我们的解决方案旨在提供表面凹凸光栅所需的制造质量。我们支持制造商达到最佳光学效率可用的倾斜角度范围。
我们有多年的经验在发展中斜光栅的解决方案。我们的解决方案提供市场领先的均匀性对晶片尺寸200毫米。
面具,我们的专家解决方案光栅腐蚀和表面处理。
我们的先进的等离子体处理解决方案——与实现ICP刻蚀,RIE和离子束刻蚀——可以处理200毫米晶圆尺寸为大批量生产的基于“增大化现实”技术的设备。我们的IonfabIBE系统被配置为最佳200 mm晶圆尺寸均匀性。
我们专有的离子束技术和专利申请网格设计允许我们生产标准45°光栅的精度。我们的处理能力涵盖了各种材料,如Si和SiO2。
集群配置选项可用,使用一个战地,高度可靠真空转移为掩模刻蚀和AR涂层模块机器人。
全球的售后支持,包括保证和支持合同,确保你实现高正常运行时间。我们的团队可以给你全世界24/7面对面或通过远程连接。我们的备件可用在启用快速反应战略位置。了解更多,看看我们的全面服务与支持选项。