HVM的盒式磁带对盒式磁带系统

专为宽温度范围的电极生产优异的均匀性和高速率薄膜而设计。可兼容高达200mm的晶圆。

旨在为深硅蚀刻(DSiE)提供广泛应用的总体灵活性。bob综合app官网登录Estrelas提供光滑的侧壁和高纵横比的过程。

快速，低损伤，低CoO生产等离子ALD处理GaN功率和射频器件。Atomfab是目前市场上最快的远程等离子体ALD生产系统。

离子束沉积和蚀刻系统具有不匹配的批量均匀性，并能够与其他等离子体蚀刻和蚀刻系统聚集在一起。

高密度等离子体快速蚀刻和沉积速率。该工艺模块提供了优异的均匀性，高通量，高精度和低损伤的工艺，晶圆尺寸可达200mm。

提供各向异性干蚀刻广泛的过程。兼容所有晶圆尺寸，最高可达200mm，晶圆之间的快速更换和低成本的拥有。

单片蚀刻技术的发展。北极星提供了一种智能的ICP蚀刻解决方案苛刻的化学生产优良的均匀性。