Process News 2016秋季

欢迎来到本期的进程新闻。

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本期我们将探讨以下主题:

• 碳化硅蚀刻技术的最新进展
  用于射频器件制造的工艺
• 高品质MoS2 CVD
  生长过程发展
• 原位等离子体预处理
  氮化镓表面还原
  金属氧化物半导体中的界面陷阱
  电容器及高
  电子迁移率晶体管
  ALD氧化铝
• 精密三维纳米加工
  硅纳米线
• 一维与二维接触
  材料

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