牛津仪器集团的一部分bob平台下载手机版
扩大
网络研讨会
高质量的基于INP的蚀刻:使用受控处理实现光滑的表面

2020年4月30日下午3点(英国)


关于网络研讨会

磷化铟(InP)是一种直接带隙半导体,在光电器件中有多种用途。为了获得高质量的最终产品,InP干蚀刻步骤必须反复给出所需的蚀刻结构。

对于许多器件来说,低的表面损伤和侧壁和底座的表面质量尤为重要。

在本次网络研讨会上,我们的高级应用工程师Katie Hobob综合app官网登录re博士将介绍两种InP蚀刻工艺,CH4/Cl2/H2和Cl2/Ar,以及影响最终蚀刻产品的工艺条件,重点是侧壁和表面质量,并举例说明器件。她还将详细介绍InP蚀刻中光学和激光端点的使用。

LD /领导/ AWG SEM图像
观看录音

满足节目主持人

凯蒂·马

凯蒂博士博士
高级应用工程师bob综合app官网登录,牛津乐器bob平台下载手机版

Katie专注于蚀刻磷化铟、砷化镓和其他iii - v相关材料。她于2013年获得牛津大学无机化学博士学位,在那里她研究固态氢存储材料。凯蒂还拥有伯明翰大学材料和纳米技术硕士学位,以及布里斯托尔大学化学本科学位。

她的工作是开发和支持蚀刻工艺的客户要求和新产品介绍。

观看录音

相关内容