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扩张
网络研讨会
如何进行等离子蚀刻碳化硅(SIC)以实现最大的设备性能

2020年5月7日,下午3点(英国)


关于网络研讨会

碳化硅(SIC)在电力设备制造商中逐渐建立,因为它在多种应用中提供了令人信服的优势与SI。bob综合app官网登录

制造SIC设备需要有关等离子体处理技术的专业知识,以最大程度地提高设备性能,请观看该网络研讨会以发现有关这些技术的更多信息。

在本网络研讨会中,您将学习:

  • 如何在SIC表面上实现精确特征
  • 快速有效的等离子蚀刻技术以实现深度SIC VIA
sic eTch
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认识主持人

马克·迪尼恩(Mark Dineen)博士

马克·迪尼恩(Mark Dineen)博士
牛津仪器技术营销经理bob平台下载手机版

Mark Dineen博士拥有20多年的血浆处理经验。他最近的工作包括将这些知识应用于从半导体激光器到基于GAN的RF设备的各种设备。

现在,他是一位经验丰富的技术营销经理,展示了将复杂的技术思想和科学概念传达给各种受众的历史。这些技术包括ALD,ALE,CVD,ICP,PECVD和RIE等离子体处理,他涵盖了如何为客户提供设备解决方案。

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