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二维材料和器件的原子层沉积


介绍

Knoops博士和Neumaier博士讨论了ALD如何用于在二维材料上生长各种材料,如电介质,以及如何直接(或间接)生长其他材料。

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伤害努普博士

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牛津仪器等离子体技术原子尺度专家bob平台下载手机版

Harm Knoops博士是牛津仪器等离子体技术的原子级专家,并在埃因霍温理工大学担任兼职助理教授职位。bob平台下载手机版他目前的工作包括(基于等离子体的)薄膜合成,先进的诊断和理解和开发等离子体ALD。

他的主要目标是为牛津仪器及其客户改进和推进原子尺度过程和应用。bob平台下载手机版bob综合app官网登录他最近参与的等离子体ALD中应用射频衬底偏压和等离子体ALD生长2D-MoS2的研究受到了业界的好评。

教授Daniel Neumaier

丹尼尔Neumaier教授
AMO传感器系统教授及科学顾问

丹尼尔于2009年获得雷根斯堡大学物理学博士学位。同年,他加入AMO GmbH并成为石墨烯小组的负责人,专注于二维材料的电子光子和传感器应用的开发。bob综合app官网登录他的专长是半导体加工、固体电子学和光电子器件。他是石墨烯旗舰电子设备项目的负责人(自2013年以来),并协调FET Open Project origal。

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