碳化硅等离子蚀刻解决方案:Mark Dineen博士描述了尖端技术,通过应用提供了几种适合碳化硅的工艺能力。
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Mark Dineen博士有超过20年的等离子体处理经验。他最近的工作包括将这一知识应用于从半导体激光器到氮化镓基射频器件等广泛的器件。
Mark现在是一名经验丰富的技术营销经理,具有向不同的观众传达复杂的技术思想和科学概念的经验。这些技术包括ALD、ALE、CVD、ICP、PECVD和RIE等离子体处理,以及如何为我们的客户提供设备解决方案。