白皮书
失效分析中的等离子体处理技术

失效分析(FA)是半导体器件制造的重要组成部分，它是销钉缺陷的侦探工作，并有助于维护高质量成分的一致，可靠的制造。

在这篇白皮书中，我们提出了一套用于FA的等离子体处理工具，目的是为它们在不同任务中的适用性提供实际指导。发现故障和诊断其来源的一种方法是逐步和精确地去除各种器件层，以暴露嵌入式电路结构。现代集成电路(ICs)的密度意味着湿法蚀刻工艺不再适用于这项鉴定任务，它们现在已经被更复杂的等离子处理技术所取代。等离子体刻蚀允许精确和可重复的脱层，而等离子沉积使保形涂层
兴趣特征，一种叫做装饰的技术，它提供了生产性成像所需的强烈对比。

的优点等离子体增强(PE)蚀刻，反应离子蚀刻和电感耦合等离子体蚀刻是考虑等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和原子层沉积比较装饰应用程序。bob综合app官网登录

作者

Mark Dineen博士
牛津仪器等离子技术市场部经理bob平台下载手机版