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砷化镓(砷化镓)

砷化镓(砷化镓)是常用的结合铝砷化镓(AlGaAs)等形式反映在光电设备VCSELs。也多量子井的一部分(发光)很多设备的性能的关键。AlGaAs可能干蚀刻使用电感耦合等离子体(ICP),反应离子刻蚀(RIE)离子束刻蚀(IBE)。腐蚀过程可以选择性或大众化的砷化镓取决于需求。

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砷化镓

优秀的概要文件特性较低脚和光滑的表面蚀刻蚀刻率高。

在ICP 请求更多的信息
砷化镓/ AlGaAs ICP刻蚀

砷化镓/ AlGaAs可能蚀刻使用反应离子刻蚀(RIE)的过程。优秀的概要文件特性较低脚和光滑的表面蚀刻。

  • 单一晶片尺寸:200毫米
  • 批处理大小:6 x2”
更多的RIE 请求更多的信息
砷化镓/ AlGaAs RIE

砷化镓/ AlGaAs多层腐蚀

砷化镓可能蚀刻使用反应离子束蚀刻(活性离子束腐蚀)过程的技术。

蚀刻速率、选择性和竞争性的概要文件。

更多关于活性离子束腐蚀 请求更多的信息
砷化镓活性离子束腐蚀

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