氮化硅(SiNx)广泛应用于半导体行业。它的应用包bob综合app官网登录括设备钝化和蚀刻掩模。如果3.N4可使用以下技术存放:
氮化硅是一种具有挑战性的ALD材料。我们的系统允许高材料质量和低损伤沉积,即使在低沉积温度。ALD氮化硅可用于防潮应用和作为先进晶体管的垫片。bob综合app官网登录
高材料质量,低损伤,即使在低沉积温度。
可以使用不同的化学试剂:纯硅烷和稀释硅烷
高质量的电影,低BOE
优良的膜厚均匀性
含NH的氢含量低3.自由的过程
薄膜应力控制
折射率控制
低温沉积至20°C
沉积速率为5-100nm/min