五氧化二钽

五氧化二钽(助教₂O₅)，也称为氧化钽(V)，用于现代电容器和DRAM电容器中的高k介质。它可以蚀刻使用电感耦合等离子体(ICP)而且活性离子蚀刻(RIE)．助教₂O₅可使用原子层沉积(ALD)．

良好的蚀刻速率。

晶片尺寸:200毫米
产品:PlasmaPro 100眼镜蛇

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高材料质量，低损伤，即使在低沉积温度。

晶片尺寸:可达100mm
- 产品:PlasmaPro 100 RIE

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优秀的化学计量与竞争的沉积速率。

晶片尺寸:200毫米
产品:FlexAL

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