为了在合理的速率下实现真正的啤酒,需要精确控制气体流量和等离子体功率,所以PlasmApro 100 ale.通过专门的硬件提供这一点,包括:
所有这些结合以使蚀刻在原子尺度上以精度蚀刻
PlasmApro 100Ale可提供对下一代半导体器件的蚀刻的精确过程控制。专为GaN HEMT应用而设计的工艺,如凹陷蚀刻......bob综合app官网登录