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PlasmaPro 100纳米CVD

用于生长1D/2D纳米材料和异质结构的化学气相沉积(CVD)和PECVD工具。PlasmaPro 100 Nano(原名Nanofab)通过原位催化剂激活和严格的过程控制提供高性能的纳米材料生长,具有高达1200°C的灵活温度。

  • 优异的均匀性,可灵活温度高达1200°C

  • 可选700°C、800°C或1200°C表
  • 样品尺寸可达200mm

  • 真空负载锁定-快速换样

  • 冷壁设计与淋浴喷头基础上均匀的前驱体输送
  • 可选的液体/固体源传输系统用于MoS的生长2,摩斯2和其他TMDCs


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  • 优异的均匀性,可灵活温度高达1200°C

  • 可选700°C、800°C或1200°C表
  • 样品尺寸可达200mm

  • 真空负载锁定-快速换样

  • 冷壁设计与淋浴喷头基础上均匀的前驱体输送
  • 可选的液体/固体源传输系统用于MoS的生长2,摩斯2和其他TMDCs

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全球客户支持

bob平台下载手机版牛津仪器致力于提供全面、灵活和可靠的全球客户支持。我们提供优质的服务贯穿您系统的整个生命周期。

  • 远程诊断软件提供快速、简单的故障诊断和解决方案。
  • 支持合同可根据预算和情况提供。
  • 在战略位置提供全球备件,快速响应。
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新:PTIQ软件

PTIQ是针对PlasmaPro和Ionfab加工设备的最新智能软件解决方案。

  • 异常灵敏的系统控制
  • 优化系统和过程性能
  • 不同级别的软件以满足您的需求
  • 全新直观的布局设计
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升级/配件

气体豆荚-加入额外的天然气管道,并允许更大的灵活性

涡轮分子的真空泵-提供卓越的泵送速度和更高的吞吐量

光学端点检测器-实现最佳过程结果的重要工具

TEOS液位传感-使用安装在TEOS罐上的超声波液位传感器实现液位传感

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