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Cobra®ICP等离子体源生产低压下的高密度反应物质.基片直流偏压由单独的射频发生器驱动,允许根据工艺要求独立控制自由基和离子。

bob平台下载手机版牛津仪器公司的PlasmaPro 100工艺模块提供了一个200mm的平台单片和多片批处理能力.工艺模块提供高通量,高精度和优良的均匀性,干净光滑的垂直轮廓和蚀刻表面。

特性

  • 将反应物质传递到衬底,通过腔室具有均匀的高电导路径-允许在保持低腔室压力的同时使用高气体流量,为高级应用开发提供了广泛的工艺窗口
  • 宽温度范围的电极,可以通过流体再循环冷水机冷却到-20°C和液氮冷却到-150°C,或电阻加热到400°C-可选的吹出和流体交换单元可以自动切换模式,-20°C到-150°C的转换只需10分钟
  • 由再循环冷却装置提供的流体控制电极优良的基材温度控制
  • ICP源尺寸为65mm300毫米- 300mm源提供卓越的工艺均匀性高达200mm晶圆
  • He式背面冷却夹持晶圆—最佳的晶圆温度控制
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  • III-V蚀刻工艺的广泛库
  • 量子器件的NbN和Ta
  • 化合物半导体应用:bob综合app官网登录
  • 广泛的金属蚀刻工艺库:Al, Cr, Ni等
  • SiOx和二氧化矽腐蚀
  • 熔融石英和石英蚀刻
  • 如果腐蚀
  • SiO2和SiNx硬掩模蚀刻
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金属屏蔽熔融硅SEMS"title=
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晶片尺寸:可达200毫米

ICP源尺寸可选:65mm和300mm

温度范围:从-150到400°C

集群:多达5个模块,包括ALD, PECVD,离子束蚀刻和离子束沉积等技术

PlasmaPro 100手册
网络研讨会:InP器件的等离子体工艺
白皮书:InP激光二极管器件生产:DFB光栅蚀刻
下载手册

案例研究

我们与格拉斯哥大学的两位研究人员进行了非常有意义的对话,他们分享了他们在大学内最先进的詹姆斯·瓦特纳米制造中心(JWNC)无尘室进行的创新项目。

Jharna Paul博士和Valentino Seferai使用牛津仪器PlasmaPrbob平台下载手机版o®100 Cobra ICP RIE系统制造超导量子比特。

我们使用牛津仪bob平台下载手机版器PlasmaPro 100 Cobra ICP蚀刻系统,可以有效地控制等离子体,功率,气体输送,腔室压力和基板温度。格拉斯哥大学研究助理Jharna Paul博士说

全球客户支持

bob平台下载手机版牛津仪器致力于为全球客户提供全面、灵活、可靠的支持。我们在您系统的整个生命周期内提供优质的服务。

  • 远程诊断软件提供快速简便的故障诊断和解决方案。
  • 支持合同可用于适应预算和情况。
  • 全球备件在战略位置,快速响应。
了解更多

新:PTIQ软件

PTIQ是PlasmaPro和Ionfab加工设备的最新智能软件解决方案。

  • 卓越的响应系统控制水平
  • 优化系统和流程性能
  • 不同级别的软件,以满足您的需求
  • 全新直观的布局和设计
了解更多

选项

其他PlasmaPro 100系统包括:

PlasmaPro 100 RIE

  • RIE模块为广泛的工艺提供各向异性干蚀刻。

PlasmaPro 100 ICPCVD

  • ICP CVD工艺模块设计用于在低沉积压力和温度下,用高密度等离子体在室温到400℃范围内生产高质量的薄膜。

PlasmaPro 100 PECVD

  • PECVD工艺模块专门设计用于生产优良的均匀性和高速率薄膜,并可控制薄膜的折射率、应力、电特性和湿化学腐蚀速率等特性。

升级/配件

气体豆荚-合并额外的天然气管道,并允许更大的灵活性

Logviewer软件-数据记录软件允许实时绘图和后运行分析

光学端点检测器-实现最佳工艺结果的重要工具

软泵-允许缓慢泵入真空室

涡轮分子真空泵-提供卓越的泵送速度和更高的吞吐量

X20控制系统-提供一个未来可靠,灵活和可靠的工具,增加系统的“智能”

先进能源派拉蒙发电机-提供更高的可靠性和更高的等离子体稳定性

自动压力控制-该控制器确保非常快速和准确的压力控制

双CM表开关-通过一个压力控制阀,可以使用两个不同范围的电容压力计

LN2自动转换装置-使表冷却液在液氮(LN2)和冷水液之间自动切换

TEOS液位传感-使用安装在TEOS罐上的超声波液位传感器实现液位传感

宽温度范围电极显著的设计改进以提高工艺性能

即将来临的事件

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