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80年PlasmaPro PECVD

PlasmaPro 80是一款紧凑、占地面积小的系统,提供多功能的蚀刻和沉积解决方案,可方便地开启加载。它易于现场和易于使用,没有妥协的过程质量。开式加载设计允许快速加载和卸载晶片,是研究、原型和小批量生产的理想选择。它使用优化的电极冷却和优良的基片温度控制实现高性能工艺

  • 开式加载设计,可快速加载和卸载晶片
  • 优异的蚀刻控制和速度测定
  • 良好的晶片温度均匀性
  • 高达200mm的晶片
  • 拥有成本低
  • 根据Semi S2/S8标准制造


要求定价添加到报价表中

  • 高质量的PECVD氮化硅二氧化硅用于光子学、电介质层、钝化和许多其他用途
  • 用于高亮度LED生产的硬掩膜沉积和蚀刻
近距离的HBLED电源显示
在城市天际线使用HBLED
  • 占用空间小-易于安装
  • 优化电极冷却-衬底温度控制
  • 高导径向(轴对称)泵浦结构—保证增强的过程一致性和速率
  • 增加< 500ms的数据记录-可追溯性和工艺条件的历史
  • 短背的涡轮泵-泵送速度快,基压好
  • 对关键组件的访问非常容易-提高了可服务性和维护性
  • X20的控制系统-大大增加数据检索和提供更快,更可重复匹配
  • 通过前端软件进行故障和工具诊断—快速故障诊断
  • 使用干涉测量法的激光端点检测-测量反射表面上透明材料(如硅上的氧化物)的蚀刻深度,或非透明材料(如金属)的反射测量以确定层边界
  • 光学发射光谱法(OES)用于大样品或批量过程末端指向-检测腐蚀副产物的变化或反应气体种类的消耗,并为室清洁末端
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全球客户支持

bob平台下载手机版牛津仪器致力于提供全面、灵活和可靠的全球客户支持。我们提供优质的服务贯穿您系统的整个生命周期。

  • 远程诊断软件提供快速、简单的故障诊断和解决方案。
  • 支持合同可根据预算和情况提供。
  • 在战略位置提供全球备件,快速响应。
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新:PTIQ软件

PTIQ是针对PlasmaPro和Ionfab加工设备的最新智能软件解决方案。

  • 异常灵敏的系统控制
  • 优化系统和过程性能
  • 不同级别的软件以满足您的需求
  • 全新直观的布局设计
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