PlasmaPro 800的直径为460mm,可提供完整的300mm或大批量43 × 50mm(2”)产能,实现全面的生产解决方案,并使PlasmaPro 800成为经过充分验证的市场领先产品。
允许复合半导体,光电子和光子应用应用的最大工艺灵活性,PlasmApro 800提供:bob综合app官网登录
大的电极- 低拥有成本
蚀刻终点检测—可靠性和可服务性
通过激光干涉测量和/或光发射光谱检测端点检测-可安装加强蚀刻控制
4-,8或12行气体豆荚的选项-在工艺和工艺气体方面提供灵活性,可远程安装在服务区,远离主工艺工具
紧耦合涡轮泵-泵送速度快,基压好
数据采集- 可追溯性和腔室和工艺条件的历史
流体冷却和/或电加热电极优良的电极温度控制和稳定性
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PlasmApro 800 PECVD.
800年PlasmaPro RIE