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800年PlasmaPro RIE

PlasmaPro 800提供了一个灵活的解决方案,反应离子蚀刻(RIE)过程在大晶圆批量和300mm晶圆,在紧凑的占地面积,开放加载系统。大型晶圆压板可进行批量生产和300mm晶圆处理。

  • 高性能流程
  • 优良的衬底温度控制
  • 精确的过程控制
  • 已验证的300mm单片失效分析工艺


要求定价添加到报价表中

PlasmaPro 800的直径为460mm,可提供完整的300mm或大批量43 × 50mm(2”)产能,实现全面的生产解决方案,并使PlasmaPro 800成为经过充分验证的市场领先产品。

允许化合物半导体、光电子和光子学应用的最大工艺灵活性,PlasmaPro 800提供:bob综合app官网登录

大的电极-拥有成本低

腐蚀终点检测—可靠性和可服务性

激光干涉和/或光学发射光谱端点检测-可安装加强蚀刻控制

选择一个4-,8-或12线气舱-在工艺和工艺气体方面提供灵活性,可远程安装在服务区,远离主工艺工具

短背的涡轮泵-泵送速度快,基压好

数据采集-可追溯性和工艺条件的历史

流体冷却和/或电热电极优良的电极温度控制和稳定性

  • 故障分析干蚀刻脱处理使用我们特别配置的故障分析工具,RIE和双模式
  • RIE/PE工艺范围从封装芯片和模蚀刻到全300mm晶圆蚀刻
  • 高质量的PECVD SiNx和SiO2,用于光子学,介质层钝化和许多其他应用bob综合app官网登录
  • SiO2, SiNx,石英蚀刻
  • 金属和聚酰亚胺蚀刻
  • 用于高亮度LED生产的钝化沉积
  • III-V腐蚀过程
下载手册

全球客户支持

bob平台下载手机版牛津仪器致力于提供全面、灵活和可靠的全球客户支持。我们提供优质的服务贯穿您系统的整个生命周期。

  • 远程诊断软件提供快速、简单的故障诊断和解决方案。
  • 支持合同可根据预算和情况提供。
  • 在战略位置提供全球备件,快速响应。
了解更多

新:PTIQ软件

PTIQ是针对PlasmaPro和Ionfab加工设备的最新智能软件解决方案。

  • 异常灵敏的系统控制
  • 优化系统和过程性能
  • 不同级别的软件以满足您的需求
  • 全新直观的布局设计
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选项

800年PlasmaPro PECVD

  • 用于生产高质量均匀的介质薄膜。PECVD中的应力控制是由可选择的或混合的高/低频等离子功率提供的,使沉积薄膜可以进行拉伸、压缩或低应力的调节。

800年PlasmaPro RIE

  • 经过验证的干式蚀刻广泛应用于整个行业。

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