强大的离子束沉积处理解决方案

探索行业领先的IBD解决方案和系统，实现从红外传感器到数据通信的应用。bob综合app官网登录

离子束沉积(IBD)解决方案

离子束沉积(IBD)提供了一种非常通用的沉积方法。我们的离子束沉积产品能够生产高质量、致密和光滑表面的沉积薄膜。

我们的系统有灵活的硬件选择，包括开载和盒式磁带对盒式磁带。系统规格与应用密切协调，实现更快和可重复的过程结果。bob综合app官网登录

折射率、吸收、散射、粘附和堆积密度等特性可以通过改变光束参数(如光束通量和能量)、相对于入射材料的平板方向和气流来调节。

IBD的主要好处

具有超低污染的高品质薄膜
高吞吐量，占地面积小，操作成本低
无与伦比的批一致性和工艺再现性
非常精确的光学薄膜厚度控制
非常低的表面膜粗糙度

炎症性肠bob综合app官网登录病的应用程序

激光小面涂层(含高反射和抗反射)
环形激光陀螺反射镜
x射线光学
基于ii - vi的红外传感器
红外传感器(氧化钒，II-VI)
电信的过滤器

下载手册

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Ionfab IBD系统

我们的离子束沉积(IBD)系统是高质量材料加工的热门选择。我们的系统有灵活的硬件选择，包括单基板负载锁定和盒式磁带到盒式磁带。系统规格与应用密切协调，实现更快和可重复的过程结果。bob综合app官网登录

多个模式功能
能够与其它等离子体蚀刻和沉积工具聚集
双光束配置
非常低的表面膜粗糙度
灵活的配置为先进的研究应用bob综合app官网登录
无与伦比的均匀性和生产过程的重复性
灵活的晶圆片处理能力-单个晶圆片装载锁或盒到盒的机器人处理

查看完整的硬件规范>

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离子束蚀刻(IBE)溶液

除了我们的IBD技术，我们还提供离子束蚀刻(IBE)解决方案。

离子束蚀刻(或铣削)是通过在高真空室中将一束带电粒子(离子)对准具有适当图案的掩模的基板来实现的。它使高定向的中性离子束能够控制侧壁轮廓，以及在纳米化过程中的径向均匀性优化和特征塑造。

我们的离子束系统同时具备IBE和IBD技术。

了解更多

IBE应bob综合app官网登录用程序

倾斜的腐蚀
激光面蚀刻
磁阻随机存取存储器
介质的电影
III-V光子学蚀刻
自旋电子学
金属触点和磁道
超导体

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