强大的等离子体刻蚀的解决方案

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离子束刻蚀(IBE)解决方案

原子层沉积(ALD)是一种先进的沉积技术,允许一些纳米超薄薄膜沉积在一个精确控制的方法。不仅ALD提供优秀的厚度控制和均匀性,但3 d结构可以保形涂层覆盖high-aspect-ratio结构。

IBE图片或图

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关键的好处IBE

自限性原子层增长
适形涂层
针孔和粒子水平低
高质量较低的氧化损伤
低温过程敏感的基质
较低的金属成核延迟
广泛的材料和流程

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量子技术
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生物医学设备

流程

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ALD二氧化硅扫描电镜

保形涂层的高纵横比(15:1)结构与高效的血浆ALD SiO₂。

ALD氧化铝扫描电镜

远程血浆ALD Al 80海里₂O₃电影与长宽比2.5毫米宽的壕沟~ 10,沉积FlexAL。

下载手册 请求更多的信息

Ionfab IBE系统

FlexAL原子层沉积(ALD)系统提供了一个广泛的高质量的血浆ALD和优化热退化过程最大的灵活性的前兆,过程气体和硬件配置在一个过程。

射频偏压电极选项用于控制电影的属性
行业标准盒式磁带处理更高的吞吐量
最大的灵活性在前体的选择、过程气体,硬件特性和选项
优化维护低损、高质量的基质
低温使高质量的热敏表面沉积

FlexAL

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离子束沉积(IBD)解决方案

原子层蚀刻(ALE)是一种先进的腐蚀技术,允许优秀的深度控制浅特性。作为设备特征尺寸进一步减少,啤酒还需进一步实现最佳性能所需的精度。

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炎症性肠病的形象图

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