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离子束沉积(IBD)

离子束沉积是一种多功能、灵活的薄膜沉积技术,可提供可靠、高质量和高性能的涂层,正在得到应用bob综合app官网登录尤其在红外器件和高功率激光器,为研发和生产市场。

Ionfab.®,我们的离子束系统,是专门设计来生产高质量,高密度的薄膜,表面光滑,厚度精确控制。系统规格允许独立控制束流能量和离子电流密度,实现良好控制和可重复的沉积过程结果。


与AR的离子束沉积图

重点福利

  • 精确的沉积厚度和膜性能的微量控制
  • 不匹配的批量均匀性和过程重复性
  • 用于更高平均自由路径的低操作压力和较少的气体散射减少了孔隙率并包括在沉积膜中的气体
  • 薄膜具有更高的胶片纯度和更好地控制化学计量
  • 在沉积期间,可以在15℃和300℃之间控制衬底温度
  • 预清洁能力,提高薄膜附着力
  • 超光滑涂层具有低散射,添加薄膜表面粗糙度〜埃ang
  • 蚀刻/预清洁源允许在沉积期间衬底的照明进行辅助梁/等离子体控制膜特性(例如反应性沉积)
  • 靶/底物和的这些任选的振荡的相对成角度允许沉积配置文件和属性精确调谐那的蚀刻不DEP
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硬件

Ionfab.
离子沉积源 150mm.
存放区域 200毫米
数量的目标 最多4个目标
压纸尺寸 最多8英寸的晶片
最终产品检测 双Xtal监视器或WLOM
压板旋转 高达500rpm.
滚筒倾角 光束之间0º至75º,呈衬底表面
滚筒热 嵌入式加热器高达300ºC
压散冷却 流体冷却剂5℃至60℃,用HE或AR背面气体进行基板冷却(最多50Torr)
协助或预清洁水源 150mm和300mm的RF离子源

IBD如何工作?

来自靶的轰炸机和散纹材料的轰炸机,从而形成沉积在样品表面上的物质的羽流。离子束沉积的薄膜层特性,如折射率、吸收、散射、附着力和堆积密度,可以通过改变束流参数,如束流通量和能量,压板相对于入射材料和气体流量的取向来精细地调整。

离子束沉积(IBD)是离子束溅射沉积薄膜的三种方法之一:IBD、RIBD和IBAD。

特性

  • 沉积离子源:15cm,13.56 MHz驱动
  • 通过来源的气体入口
  • 多个目标,最多四个,带快门
  • 三格集钼,最大限度地提高沉积速率和膜纯度
  • 旋转和可倾斜的基板支架,具有高速旋转(最高500rpm)作为选项(标准20rpm)
  • 现场监测比气体分压和闭环反馈控制能力,以提高薄膜性能(如VO)的重复性和精细控制X
  • 专利的高速基板支架(高达500rpm)配备有白色光学光学监视器(WLOM),专为非常精确的原位光学膜控制而设计,特别是对于高功率激光器件

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  • 激光小面涂层(包括高反射和增透)
  • 环激光陀螺仪镜
  • X射线光学
  • 基于ii - vi的红外(IR)传感器
  • IR传感器(氧化钒,II-VI)
  • 电信过滤器
  • 金属轨道沉积:AU,CR,TI,PT,ZNS等
  • 磁性材料:Fe,Co,Ni等
带离子束沉积的32层胶层镜片

32层GRIN透镜与IBD

7层带离子束沉积的GRIN结构

具有IBD的7层咧嘴笑容

离子束系统

Ionfab是我们的柔性离子束蚀刻和沉积系统,设计用于研究、中试和全尺寸生产。该系统提供两种选择的腔室;标准和大型,可在200毫米的晶圆上进行IBD工艺。

  • 应用特定的配置优化允许生产高质量的超低污染薄膜
  • 提供出色的均匀性和再现性
  • 非常精确的原位光学薄膜控制(原位WLOM,高速选项)
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