离子束沉积是一种多功能、灵活的薄膜沉积技术,可提供可靠、高质量和高性能的涂层,正在得到应用bob综合app官网登录尤其在红外器件和高功率激光器,为研发和生产市场。
这Ionfab.®,我们的离子束系统,是专门设计来生产高质量,高密度的薄膜,表面光滑,厚度精确控制。系统规格允许独立控制束流能量和离子电流密度,实现良好控制和可重复的沉积过程结果。
Ionfab. |
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离子沉积源 | 150mm. |
存放区域 | 200毫米 |
数量的目标 | 最多4个目标 |
压纸尺寸 | 最多8英寸的晶片 |
最终产品检测 | 双Xtal监视器或WLOM |
压板旋转 | 高达500rpm. |
滚筒倾角 | 光束之间0º至75º,呈衬底表面 |
滚筒热 | 嵌入式加热器高达300ºC |
压散冷却 | 流体冷却剂5℃至60℃,用HE或AR背面气体进行基板冷却(最多50Torr) |
协助或预清洁水源 | 150mm和300mm的RF离子源 |
来自靶的轰炸机和散纹材料的轰炸机,从而形成沉积在样品表面上的物质的羽流。离子束沉积的薄膜层特性,如折射率、吸收、散射、附着力和堆积密度,可以通过改变束流参数,如束流通量和能量,压板相对于入射材料和气体流量的取向来精细地调整。
离子束沉积(IBD)是离子束溅射沉积薄膜的三种方法之一:IBD、RIBD和IBAD。
32层GRIN透镜与IBD
具有IBD的7层咧嘴笑容