测量蚀边:观察表面以下

研究人员展示了一种非破坏性的方法来测量蚀刻SiN的咬边_x电影的结构。该方法采用AFM纳米力学技术，理论测量误差约为5%。

用于制造的蚀刻工艺微电子设备例如，MEMS、MEMS和其他技术都很容易降低成本，即比预期去除更多的材料。因此，精确监测压边是确保产品规格和性能的关键。然而，既无损又能提供高空间分辨率的工具仍然很少。

为此，位于合肥的中国科学技术大学的研究人员开发了一种AFM方法来测量纳米尺度上的蚀刻蚀边。采用各向同性湿法蚀刻法制作测试结构薄膜氮化硅(SiN_x)在硅衬底上形成圆形和矩形的中心支撑板。

AFM纳米力学图像显示悬空区和支撑区之间的明显对比，证实了咬边随着蚀刻时间的延长而增加。有了这些图像，研究人员就可以识别底部边界并测量底部长度。蚀刻率也由光谱测量确定，并与成像结果一致。理论分析表明，实验装置的测量误差约为5%。

该结果提出了一种在纳米尺度上实时检测蚀刻蚀边的策略，在各种微纳米制造应用中可能被证明有价值。bob综合app官网登录

仪器使用

MFP-3D起源

技术使用

实验在一台MFP-3D起源AFM和接触共振粘弹性映射模式(CR-AFM)．上面的图像表示CR-AFM相对振幅，并具有与机械接触刚度相关的对比。在选定的样品位置进行了局部谐振频率的CR-AFM光谱测量。正如这些结果所表明的那样，Origin的高功能有助于使其成为一个出色的研究级AFM，因为它的低成本。

引用:王伟文，马春春，陈勇，接触共振原子力显微镜下腐蚀的测量。达成。理论物理。列托人。117， 023103(2020)。https://doi.org/10.1063/5.0013479

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