2018年10月2日|08.30-17.00

由CNR IMM托管
通过Gobetti 101-40129意大利博洛尼亚

该研讨会向所有从事行业和学术界工作的人开放，对研究和开发的最新进展感兴趣，以及在微型和纳米结构和设备的制造和应用中的未来趋势。

议程：

09.00-09.30 |注册和咖啡
09.30-09.45 |欢迎和介绍IT-FAB和EURONANOLAB |Vittorio Morandi，CNR Imm Bologna
09.45-10：00 |欢迎介绍|莫妮卡·法奇尼蒂（Monica Facbob平台下载手机版hinetti），牛津仪器等离子技术
10.00-10：30 |高级激光制造解决方案|罗伯特·冈恩（Robertbob平台下载手机版 Gunn），牛津仪器等离子技术
10.30-10.50 |通过GAAS和GAN/SIC设备的孔处理优化|安德里亚·卢西贝洛（Andrea Lucibello），伦纳多斯
11.20-11.50 |Rie for Silicon Photonics |中伦博士。bob平台下载手机版牛津仪器等离子技术
11.50-12.20 |MEMS设备的DRIE：FBK的过程开发|Micro-Nano制造设施Alvise Bagolini，MNF-FBK
12.20-12.50 |液体源PECVD的介电沉积|Stefano Tirelli Inphotec - Tecip Institute Pisa
12.50 –14.00 |午餐
14.00-14.30 |关键的等离子体处理解决方案以生产WBG RF和电源设备|安德鲁·牛顿博士，牛津仪器等离子技术bob平台下载手机版
14.30-14.50 |polifab中RIE使用的一些示例|Claudio Somaschini，Polifab -Politecnico di Milano
14.50-15.10 |为了要求自上而下的方法，冷冻和博世的流程
MEMS制造/ MEMS应用的干蚀刻|bob综合app官网登录牛津仪器等等离子技术的中伦博bob平台下载手机版士
15.10-15.30 |各向同性/各向异性硅干蚀刻用于微流体应用|bob综合app官网登录Fulvio Mancarella，CNR-IMM博洛尼亚
16.00-16.30 |2D材料和异质结构设备制造技术：CVD，PECVD，ALD，ALE |罗伯特·冈恩（Robertbob平台下载手机版 Gunn），牛津仪器等离子技术
16：30-17：00 |关闭和问题