7月24日
新的庇护研究AFM附件，可在平面内和平面外应用磁场下进行先进的磁性研究
理解和表征纳米级的磁性是开发下一代数据存储和逻辑元件的关键挑战之一。新MFP-3D原子力显微镜(AFMs)能够测量施加在平面内和平面外的磁场，以便更好地了解它们对纳米级磁畴结构的影响。VFM4能够对样品施加可调平面内(±8000 G)或平面外(±1200 G)磁场，并提供~ 1g的磁场分辨率。研究人员可以在网站上了解更多关于VFM4的信息，并查看最近的结果http://afm.oxinst.com/VFM4．
新产品介绍总监Maarten Rutgers博士说:“这种新的能力组合使国家同步加速器设备的客户能够使用AFM进行研究，而以前只能使用非常昂贵和耗时的扫描x射线透射显微镜(SXTM)。”“没有其他的AFM商业解决方案提供相同的功能，多功能性，易于使用的磁性研究。虽然VFM传统上用于磁力显微镜实验，但它也可以与导电AFM (CAFM)等技术一起使用，并用于各种不同的样品，包括压电和铁电材料。”
VFM4很容易与大多数庇护研究联系在一起MFP-3D afm并且包括可更换的极点尖端，以快速适应面内和面外配置。它用稀土磁铁维持稳定的磁场，不产生热量、热漂移或机械振动。对于需要外加磁场和高尖端样品电压偏置的实验，有一个可选的高压套件，以适应VFM4的±220伏电压安全应用。
图像说明:在面外磁场下用MFM成像的钴基薄膜衬垫中的磁性碰撞。图片由K. Bouzehouane提供，Unité Mixte de形体CNRS，泰利斯，巴黎南部大学，Université法国巴黎-萨克莱。
