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虽然许多技术都被认为可以提供真正的沉浸式AR体验，但波导方法一直受到微软Hololens和Vuzix等主要厂商的青睐，因为它能够实现高视野。
我们在大面积蚀刻倾斜光栅方面拥有多年的专业知识，我们的解决方案旨在提供高产量所需的制造质量。
我们支持制造商达到最佳的光学效率与倾斜角度范围可用。
我们用于IBE的Ionfab系统已配置为市场领先的200毫米晶圆尺寸均匀性。
我们的专有离子束技术和专利网格设计使我们能够生产精度极高的标准45°光栅。我们的加工能力涵盖各种材料，如硅和硅2．
集群配置选项可用，使用现场验证，高度可靠的真空转移机器人。
卓越的工艺重复性和低拥有成本使Ionfab工具成为从研发到批量生产的可配置的优秀系统。
晶圆片放置在衬底支架上，支架倾斜面向离子源。基片支架的角度可以调整为启用角度蚀刻。
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