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扩张

plasmapro 100 rie

浆膜100 RIE模块提供各向异性干蚀刻,以进行广泛的过程。

  • 与最高200mm的所有晶圆尺寸兼容
  • 晶圆尺寸之间的快速变化
  • 低成本和易用性
  • 出色的均匀性,高吞吐量和高精度过程

  • 原位室清洁和端点
  • 宽温度范围电极,-150°C至400°C


要求定价添加到报价列表

  • 将反应性物种传递到底物,并具有均匀的高电导路径穿过腔室
    允许在保持低压的同时使用高气流
  • 宽温度范围电极(-150°C至 +400°C)
    可以通过液氮,液体再循环冷却器或电阻加热来冷却 - 可选的打击和流体交换单元可以自动化开关模式的过程
  • 由重新循环冷却器单元喂养的流体控制电极
    优异的底物温度控制
  • 高泵能力- 给出宽的过程压力窗口
  • 晶圆夹住他的背面冷却
    最佳晶圆温度控制
INP波导的RIE

INP波导的RIE

70nm融合二氧化硅线933nm深CR面膜

70nm融合二氧化硅线933nm深CR面膜 - 由康奈尔纳米科学设施提供

介电金属蚀刻

介电金属蚀刻 - 由ATMEL提供

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全球客户支持

bob平台下载手机版牛津仪器致力于提供全面,灵活和可靠的全球客户支持。我们在您的系统中提供出色的质量服务。

  • 远程诊断软件提供了快速简便的故障诊断和分辨率。
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新:PTIQ软件

PTIQ是用于浆离和离子FAB处理设备的最新智能软件解决方案。

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升级/配件

气荚- 结合额外的气体管线并允许更大的灵活性

LogViewer软件-Datalogging软件允许实时绘图和后运行分析

光学终点检测器- 实现最佳过程结果的重要工具

软泵- 允许慢速抽水真空室

涡轮分子真空泵- 提供较高的抽水速度和更高的吞吐量

X20控制系统- 提供未来的证明,灵活和可靠的工具,并增加了系统的“智力”

先进的能源最重要的发电机- 提供提高的可靠性和更高的血浆稳定性

自动压力控制- 该控制器确保非常快速准确的压力控制

双CM量规切换- 提供通过单个压力控制阀利用两个不同电容压力计的不同范围

LN2自动调节单元- 使桌冷却液自动在液氮(LN2)和冷却器流体之间自动切换

TEOS液位感测- 使用安装在TEOS罐中的超声传感器实现水平传感

宽温度范围电极- 显着的设计改进以提高过程性能

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