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扩张
处理解决方案
电源设备

碳化硅和氮化炮功率设备

有效的电源开关和转换设备用于使新技术(例如电动汽车和本地电源创建和分销网络)成为可能。

通过使用材料(例如sic意味着较低的能量损失。bob平台下载手机版牛津仪器对如何通过其流程解决方案(例如原子层沉积,,,,血浆蚀刻血浆沉积

电源设备解决方案

  • 我们的原子层沉积(ALD)流程提供了极好的剂量钝化/Algan降低阈值电压转移
  • atomfab是我们最新的ALD技术创新,专门为GAN和RF设备制造设计。
  • 我们的gan蚀刻优化过程以减少血浆损伤并产生光滑的蚀刻轮廓
  • 对于超低损伤,蚀刻速率只需几nm/min即可,仅10-30nm的受控蚀刻艾根
  • sic通过蚀刻以优异的侧壁质量达到高率
  • SIC特征蚀刻显示光滑的蚀刻表面,以实现最佳设备性能
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Atomfab ALD系统

AtomFab是我们在ALD系统技术方面的最新创新,可为GAN POWER和RF设备提供快速的步伐,低伤害,低COO生产等离子体ALD处理。

  • 出色的电影统一性
  • 低补偿损失
  • 竞争性首席运营官
SIC孔蚀刻SEM图像

SIC孔蚀刻SEM图像

SIC孔蚀刻特写SEM图像

SIC孔蚀刻特写SEM图像

光滑而垂直的SIC特征蚀刻

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