地点:
德国德累斯顿
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等离子体技术
PlasmaPro 100 Polaris单片蚀刻系统提供智能解决方案,以产生您需要的蚀刻结果,以保持您的竞争优势。
PlasmaPro 100 Polaris专为蚀刻GaN、蓝宝石和SiC等坚韧材料所需的苛刻化学物质而设计,可在直径达200毫米的晶圆上均匀地提供快速蚀刻速率。
主动冷却电极-在蚀刻过程中保持样品温度
大功率ICP电源-产生高密度等离子体
可靠的硬件和易于维修-良好的正常运行时间
磁隔离-增强离子控制和均匀性
独家静电夹钳技术-能够夹紧蓝宝石,蓝宝石和硅上的GaN
加热室衬垫-优化以减少室壁沉积
高级自动匹配单元(AMU)-实现快速、高效和准确的匹配,实现卓越的工艺重复性
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PTIQ是PlasmaPro和Ionfab加工设备的最新智能软件解决方案。