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PlasmaPro 100北极星ICP RIE

单片蚀刻技术的发展。

凭借在蚀刻材料(如GaN, SiC和蓝宝石)方面的丰富经验,我们的技术能够实现最大限度地提高设备性能所需的拥有成本和良率。

PlasmaPro 100 Polaris单片ICP RIE蚀刻系统提供智能解决方案,以产生您需要保持竞争优势的极好的蚀刻结果。

  • 卓越的蚀刻速率
  • 拥有成本低
  • 专为苛刻的化学设计
  • 优异的蚀刻均匀性
  • 独家静电夹紧技术,可夹紧蓝宝石,
  • GaN在蓝宝石和硅上
  • 高导泵送系统
  • 可与其他PlasmaPro系统集群


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PlasmaPro 100 Polaris单片蚀刻系统提供智能解决方案,以产生您需要的蚀刻结果,以保持您的竞争优势。

PlasmaPro 100 Polaris专为蚀刻GaN、蓝宝石和SiC等坚韧材料所需的苛刻化学物质而设计,可在直径达200毫米的晶圆上均匀地提供快速蚀刻速率。

主动冷却电极-在蚀刻过程中保持样品温度

大功率ICP电源-产生高密度等离子体

可靠的硬件和易于维修-良好的正常运行时间

磁隔离-增强离子控制和均匀性

独家静电夹钳技术-能够夹紧蓝宝石,蓝宝石和硅上的GaN

加热室衬垫-优化以减少室壁沉积

高级自动匹配单元(AMU)-实现快速、高效和准确的匹配,实现卓越的工艺重复性

  • 射频器件SiC孔蚀刻
  • 功率半导体器件SiC特征蚀刻
  • HBLED GaN蚀刻
  • 射频器件GaN蚀刻
  • 图案蓝宝石衬底(PSS)蚀刻
  • SiO2和石英蚀刻
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全球客户支持

bob平台下载手机版牛津仪器致力于为全球客户提供全面、灵活、可靠的支持。我们在您系统的整个生命周期内提供优质的服务。

  • 远程诊断软件提供快速简便的故障诊断和解决方案。
  • 支持合同可用于适应预算和情况。
  • 全球备件在战略位置,快速响应。
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新:PTIQ软件

PTIQ是PlasmaPro和Ionfab加工设备的最新智能软件解决方案。

  • 卓越的响应系统控制水平
  • 优化系统和流程性能
  • 不同级别的软件,以满足您的需求
  • 全新直观的布局和设计
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