bob平台下载手机版Oxford Instruments的ALD产品系列将远程等离子ALD工艺与热ALD工艺相结合,在纳米结构和器件工程方面提供了独特的灵活性和能力。
FlexAL原子层沉积(ALD)系统提供了一系列优化的高质量等离子ALD和热ALD工艺,在前驱体、工艺等方面具有最大的灵活性。
Atomfab为GaN电源和射频器件提供快速、低损害、低COO生产的等离子ALD处理。