COBRA®ICP蚀刻源在低压下产生高密度的反应性物质。基板DC偏置由RF发生器独立地控制,允许根据工艺要求控制离子能量。
bob平台下载手机版Oxford Instruments的PlasmaPro 100工艺模块提供了一个200毫米平台,具有单晶片和多晶片批处理能力。工艺模块提供优良的均匀性,高吞吐量和高精度的工艺。
通过均匀的高电导通道将反应物质传递到衬底-在保持低压的同时,允许使用高气体流量
变量高度电极- 采用等离子体的三维特性,并在最佳高度处容纳高达10mm的基板
宽温度范围电极(-150℃至+ 400℃),其可以通过液氮冷却,流体再循环冷却器或电阻加热-可选的喷油和流体交换单元可以自动切换模式的过程
由循环冷水机组供给的流体控制电极-优良的基片温度控制
RF供电的淋浴喷头,优化的气体输送-提供统一的等离子体处理与LF/RF开关,允许精确控制薄膜应力
ICP源尺寸为65mm,180mm,300mm- 提供高达200mm晶圆的过程均匀性
高的泵送能力-提供宽的过程压力窗口
夹紧晶片,背面冷却-最佳晶圆温度控制
bob平台下载手机版牛津仪器致力于提供全面、灵活和可靠的全球客户支持。我们提供优质的服务贯穿您系统的整个生命周期。
气体豆荚-加入额外的天然气管道,并允许更大的灵活性
LogViewer软件- Datalogging软件允许实时图形和后运行分析
光学端点检测器- 实现最佳过程结果的重要工具
软泵- 允许真空室的缓慢泵送
涡轮分子的真空泵- 提供卓越的泵送速度和更高的吞吐量
X20的控制系统-提供了一个未来的证明,灵活和可靠的工具,增加了系统的“智能”
高级能量派拉蒙发电机-提供更高的可靠性和更高的等离子体稳定性
自动压力控制- 该控制器确保了非常快速和准确的压力控制
双CM规开关- 提供通过单个压力控制阀利用两个不同范围的电容压力计的能力
ln2自动加工单位-使表冷却液自动切换液氮(LN2)和冷水机流体
Teos液位传感-使用安装在TEOS罐上的超声波液位传感器实现液位传感
宽温度范围电极-显著的设计改进,以提高过程性能