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扩张

原子量表处理(ASP)

原子量表处理意味着在原子量表上控制的晶圆尺度处理。这种原子水平的控制延伸至薄膜的沉积,材料的去除或蚀刻以及1D和2D材料的生长及其独特的独特特性,例如石墨烯。

我们的血浆处理系统范围为原子量表处理提供了完整的解决方案。我们提供独特的群集功能或独立的系统,可以在生产量表上以原子量表精度操纵物质。

原子量表处理手册

在原子量表上驱动创新

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电介质的ALD

介电,氮化物和金属的原子层沉积,损伤较低。我们独特的群集功能可以直接覆盖表面而无需接触空气。例如,这些可能是蚀刻的界面或新鲜生长的2D材料,例如MOS2或石墨烯被ALD介电或封盖层覆盖,对于各种设备而言,这可能是一个很大的优势。

介电和金属的原子层沉积,损伤低

介电和金属的原子层沉积,损伤低

化学蒸气沉积

化学蒸气沉积和原子薄结构的ALD:1d&2d材料。

可以通过用ALD膜或蚀刻1D和2D材料覆盖纳米线来构建独特的设备,以调整其性能。

使用DEZN前体的ZnO纳米线的CVD生长

使用DEZN前体的ZnO纳米线的CVD生长。
(由剑桥大学纳米科学中心提供)

HBN的CVD增长

HBN的CVD增长

原子层蚀刻(啤酒)

硅,GAN和2D材料的原子层蚀刻。由于这些材料在广泛的设备中发挥重要作用,因此我们通过极端控制和低损害蚀刻它们的能力可能是一种有利的技术。此外,将啤酒与沉积和增长结合在一起将为您的设备制造提供独特的优势。

25nm宽的si沟蚀刻到110nm深度的ALE,HSQ面膜仍在原位

25nm宽的Si沟蚀刻到110nm的深度,HSQ面膜仍然存在。

挠性 - ALD系统

步伐|灵活性|等离子体

Flexal ALD系统提供优化的高质量等离子体解决方案,满足学术界和公司研发的各种需求。

  • 一个灵活的工具中的远程等离子体和热ald
  • 前体,加工气体和硬件配置的最大灵活性
  • 低损伤和高质量的底物
  • 高质量沉积,敏感表面低温
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远程等离子体和热ALD工艺的挠性ALD系统

网络研讨会:

石墨烯和2D材料的晶圆刻度设备制造和电气表征

使用2D材料(例如石墨烯)开发高性能设备比以往任何时候都重要。与合作伙伴关系Raith GmbhDas-Nano Onyx,该网络研讨会概述了石墨烯和2D材料制造,光刻和非破坏性电气表征,处理解决方案,这些解决方案是下一阶段技术准备就绪的关键驱动力。

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白皮书:

生命科学和生物医学应用的设备制造:微流体成分制造bob综合app官网登录

随着生物医学设备提高了各种疾病的治疗速度和效率,半导体技术对全球医疗保健变得越来越重要。在这份白皮书中,您将学习生物医学设备中传感器/传感器的微流体和活性元素制造的各种处理挑战和解决方案。

下载白皮书

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