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产品


产品组(未选择
阿尔德

阿尔德

  • 出色的过程控制
  • 出色的薄膜屏障特性
  • 实际上是无针孔的电影
啤酒

啤酒

  • 高选择性
  • 低伤害
  • 出色的统一性
DSIE

DSIE

  • 精密蚀刻过程
  • 高选择性
  • 高纵横比
离子光束系统

离子光束系统

  • 多个晶圆处理选项
  • 多模式功能
  • 单晶片载荷或簇晶片处理
ICP蚀刻系统

ICP蚀刻系统

  • 高密度
  • 低压
  • 宽温度范围
ICPCVD

ICPCVD

  • 优质的质量
  • 低伤害膜
  • 宽温度范围
CVD系统

CVD系统

  • 带淋浴的冷墙设计
  • 极好的温度均匀性
  • 最多1200oC
PECVD

PECVD

  • 出色的统一性
  • 高速胶片
  • 膜特性的出色控制
rie蚀刻

rie蚀刻

  • 各向异性干蚀刻
  • 快速,一致的蚀刻
  • 高泵能力
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