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(Ta)是一种过渡金属,具有很强的耐腐蚀性。
它被应用于诸如SiN或SiCbob综合app官网登录膜上的x射线掩模吸收剂以及现代电容器的一部分。
它可以蚀刻使用电感耦合等离子体(ICP)而且活性离子蚀刻(RIE)

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