等离子体过程对于新兴的硅基微型机电系统(微机电系统)、纳米机电系统(NEMS)和先进的包装(美联社)应bob综合app官网登录用程序。通常,每个设备都有一个定制的工艺流程,但可以发现协同效应,因为大多数使用2.5D方法生产,包括顺序沉积,光刻和蚀刻循环。
硅蚀刻是大多数MEMS和NEMS器件的核心。在这次网络研讨会中,我们将讨论每种深硅蚀刻技术的优点,包括博世,低温而且混合气体工艺,以及它们在新兴设备上的应用。
在制造过程中,等离子体工艺对于实现可重复的干沉积和蚀刻步骤至关重要。等离子体工艺越来越多地应用于压印和粘接工艺中。
大腔也被蚀刻以实现多晶圆器件,其中通过硅通孔(TSVs)正在成为一种关键的互连技术。将原子层沉积(ALD)集成到MEMS中越来越普遍,而NEMS器件正在利用等离子体工艺和材料的新组合来实现新功能。集成硅光子学在绝缘体上硅(SOI)材料上得到了广泛的发展,用于数据通信、增强现实(AR)和虚拟现实(VR)以及量子计算。
任钟博士于2008年获得英国布里斯托大学光子学博士学位。之后,他致力于复合半导体和高亮度LED;他目前专注于硅基工艺开发。他是牛津仪器公司的首席应用工程师,从bob综合app官网登录事等离子腐蚀处理已有15年。bob平台下载手机版他在半导体、光电子和MEMS领域发表了超过20篇期刊论文和英国专利。