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网络研讨会
如何等离子体蚀刻碳化硅(SiC)以实现最大设备性能


介绍

碳化硅(SiC)变得成熟在电力设备制造商,因为它提供了引人注目的优点和Si在几个应用程序。bob综合app官网登录

制造碳化硅设备需要专家知识的等离子体处理技术为了最大限度地提高设备性能,看这个研讨会发现关于这些技术的更多信息。

在这个网络研讨会,您将学习:

  • 如何实现在碳化硅表面精度特性
  • 快速和高效等离子体蚀刻技术来实现深SiC通过

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马克Dineen博士

马克Dineen博士
技术营销经理,牛津仪器bob平台下载手机版

马克博士Dineen有超过20年的等离子体处理经验。他最近的工作包括将这些知识应用到广泛的设备从半导体激光器GaN-based射频设备。

他现在是一位经验丰富的技术营销经理展示了历史的复杂的技术交流思想和科学概念不同的观众。肾上腺白质退化症患者,这些技术包括啤酒、CVD、ICP、PECVD RIE等离子处理和他"封面这些如何交付设备解决方案给我们的客户。

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