牛津仪器集团的一部分bob平台下载手机版
扩大
网络研讨会
ALD高k氧化物的优化应用bob综合app官网登录


介绍

Uwe Schroeder博士和Harm Knoops博士将讨论铁电HfO的ALD2用于新的内存应用程序和TiO的调优bob综合app官网登录特性2和高频振荡器2等离子体ALD过程中衬底偏压的影响。

问题吗?今天联系我们。

联系我们

满足主持人

伤害努普博士

伤害努普博士
牛津仪器等离子体技术原子尺度专家bob平台下载手机版

Harm Knoops博士是牛津仪器等离子体技术的原子级专家,并在埃因霍温理工大学担任兼职助理教授职位。bob平台下载手机版他目前的工作包括(基于等离子体的)薄膜合成,先进的诊断和理解和开发等离子体ALD。

他的主要目标是为牛津仪器及其客户改进和推进原子尺度过程和应用。bob平台下载手机版bob综合app官网登录他最近参与的等离子体ALD中应用射频衬底偏压和等离子体ALD生长2D-MoS2的研究受到了业界的好评。

乌维Shroeder博士

乌维Shroeder博士
NaMLab Gmbh科学副总监

丹尼尔于2009年获得雷根斯堡大学物理学博士学位。同年,他加入AMO GmbH并成为石墨烯小组的负责人,专注于二维材料的电子光子和传感器应用的开发。bob综合app官网登录他的专长是半导体加工、固体电子学和光电子器件。他是石墨烯旗舰电子设备项目的负责人(自2013年以来),并协调FET Open Project origal。

相关内容