强大的离子束蚀刻处理解决方案

离子束技术通过提供单一工具和最大化的系统利用来提供一种极其多功能的蚀刻方法。离子束蚀刻提供最大的灵活性，均具有出色的均匀性。

通过在高真空室中将带带电粒子（离子）引导在基板上的带电粒子（离子）的束来实现离子束蚀刻（或研磨）。它使得能够在侧壁轮廓以及纳米透明期间控制侧壁轮廓以及径向均匀性优化和特征整形的高度方向梁。

可以通过倾斜样本改变离子束的冲击方向的独特能力来创造倾斜的特征。

我们的离子束系统，Ionfab，可以配置为蚀刻(IBE)和沉积(IBD)技术。

IBE的主要好处

• 允许束能量和离子通量独立控制
• 过程发生在低压工作环境中
• 产生的各向异性腐蚀
• 为待蚀刻的所有已知材料提供手段
• 由于相对于样品/掩模表面的可变蚀刻光束角度，允许成角度的轮廓控制

除了我们的IBE技术，我们还提供离子束沉积(IBD)解决方案。

离子束沉积是一种多功能且柔性的薄膜沉积技术，可提供可靠，高质量和高性能的涂层，特别是在红外装置和高功率激光器中的应用。bob综合app官网登录

我们的离子束系统能够拥有IBE和IBD技术。