什么是血浆蚀刻？

等离子蚀刻是当今世界上必不可少的工具，使我们认为理所当然的许多技术。例如，没有它，智能手机将是不可能的。等离子体蚀刻是在几乎任何材料中创建特征的一种方式，这些功能可以在NM尺度上或100微米。该技术可用于使它们全部。

电感耦合等离子体反应性离子蚀刻（ICP-RIE）

等离子蚀刻的领先技术之一是ICP-RIE，它在过程性能方面具有许多优势：

为了控制轮廓控制并说明其好处：摩尔定律将设备的临界维度（CD）驱动到低于µm的水平。如果您的功能在垂直和水平上沿相同方向蚀刻的功能，那么如此紧密包装的设备将很快互相干扰。

ICP-RIE等离子体蚀刻可以产生完美的垂直特征，因此CD得以维持。与湿蚀刻相比，它被广泛使用。

使用ICP RIE的深硅蚀刻

砷耐VCSEL蚀刻工艺

RIE的等离子蚀刻已被广泛使用数十年，而其性能与ICP-Rie的性能不符，它是一种简单的技术，对许多应用非常有效。bob综合app官网登录

例如，介电蒙版的等离子蚀刻通常不需要高率，而RIE提供了足够的垂直性来创建出色的口罩。

二氧化硅（SIO）₂）rie蚀刻

pe蚀刻是等离子体蚀刻溶液的最小方向性，因此不适合创建精细的垂直特征。它用于高度选择性的各向同性过程，在该过程中，底切是可以接受的，可用于选择性地清除大面积材料到基础层。

等离子体蚀刻是一种复杂的多功能技术，用于创建各种设备。

使用PE蚀刻的失败分析