地点：
德累斯顿，德国
bob综合app手机客户端参加的企业：
等离子体技术
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扩张
坍塌
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Plasmapro 100 Polaris单晶片蚀刻系统提供智能解决方案，以产生保持竞争优势所需的蚀刻结果。
Plasmapro 100 Polaris专门为蚀刻强力材料（例如GAN，SAPPHIRE和SIC）所需的严酷化学成分设计，可在最高直径200mm的晶状体上均匀地提供快速的蚀刻速率。
主动冷却电极- 在蚀刻过程中保持样品温度
高功率ICP来源- 产生高密度等离子体
可靠的硬件和易用性- 出色的正常运行时间
磁垫片- 增强的离子控制和均匀性
独家静电夹技术- 能够夹住蓝宝石，蓝宝石和硅
加热的腔室衬里- 优化以减少腔室墙沉积
高级自动匹配单元（AMU）- 允许快速，高效和准确的匹配，使得出色的过程可重复性
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