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等离子体技术
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扩大
崩溃
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Cobra®ICP蚀刻源在低压下产生高密度的反应性物质。衬底直流偏压由射频发生器独立控制，允许根据工艺要求控制离子能量。
bob平台下载手机版牛津仪器公司的PlasmaPro 100工艺模块提供了一个200mm平台，具有单晶片和多晶片批处理能力。工艺模块提供出色的均匀性、高通量和高精度工艺。
以均匀的高电导路径将反应性物质输送至基底-允许在保持低压的同时使用高气流
可变高度电极-利用等离子体的三维特性，并在最佳高度容纳厚度达10mm的基板
宽温度范围电极（-150°C至+400°C），可通过液氮、流体再循环冷却器或电阻加热进行冷却-可选的吹出和流体交换装置可自动切换模式
由再循环冷却装置供电的流体控制电极-优良的基板温度控制
RF动力淋浴头，具有优化的气体输送-通过LF/RF开关提供均匀的等离子体处理，允许精确控制薄膜应力
ICP光源尺寸为65mm、180mm和300mm-提供高达200mm晶圆的工艺均匀性
高泵送能力-提供宽的过程压力窗口
硅片背面冷却夹紧-最佳晶圆温度控制
bob平台下载手机版牛津仪器致力于提供全面、灵活和可靠的全球客户支持。我们在您系统的整个生命周期内提供优质服务。
气荚-包括额外的气体管线，并允许更大的灵活性
Logviewer软件-数据记录软件允许实时绘图和运行后分析
光学端点检测器-实现最佳工艺结果的重要工具
软泵-允许真空室缓慢泵送
涡轮分子真空泵-提供卓越的泵送速度和更高的吞吐量
X20控制系统-提供经得起未来考验的、灵活可靠的工具，增强系统的“智能”
高级能量发生器-提供更高的可靠性和更高的等离子体稳定性
自动压力控制-该控制器确保了非常快速和准确的压力控制
双厘米开关-能够通过一个压力控制阀使用两个不同范围的电容压力计
液氮自动转换装置-使工作台冷却液能够在液氮（LN2）和冷却液之间自动切换
TEOS液位传感-液位感应通过安装在TEOS罐上的超声波液位传感器实现
宽温区电极-显著改进设计以提高工艺性能
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